国家存储器基地项目武汉开工 总投资240亿美元

（原标题：国家存储器基地项目武汉开工）

《人民日报海外版》（2017年01月03日 第01版）

据新华社武汉1月2日电　（记者李思远、陈俊）总投资240亿美元的国家存储器基地项目近日在武汉东湖高新区正式开工。2020年全面建成后，该项目年产值将超过100亿美元，实现中国集成电路存储芯片产业规模化发展“零”的突破。

此次开工的国家存储器基地项目位于武汉东湖高新区武汉未来科技城，将建设3座全球单座洁净面积最大的厂房、一座总部研发大楼和其他若干配套建筑，其核心生产厂房和设备每平方米的投资强度超过3万美元。项目一期计划2018年建成投产，2020年完成整个项目，总产能将达到30万片／月。

存储器是信息系统的基础核心芯片，最能代表集成电路产业规模经济效益和先进制造工艺，同时也是中国进口金额最大的集成电路产品。